硅晶圓超聲波清洗機主要能夠被用于清洗半導體及晶片的表面，因為這些物體的材料都極小，并且有些物體表面凹凸不平，縫隙極多，使用前都需要進行相當高精度的清洗，而超聲波清洗機是最佳的選擇。

在使用超聲波清洗機時，只需要輕按設(shè)備上的顯示屏，就能夠通過超聲波不停地振動，同時將多個半島材料表面的污染物徹底剝離。整個超聲波清洗機使用不銹鋼材料制成，完全使用水基溶劑進行清洗，所排污垢不會對環(huán)境造成不必要的污染。而且該設(shè)備附帶多種輔助功能，如果需要對材料進行烘干處理，也有相應的烘干流程可供選擇，非常人性化。另外，在設(shè)備的底部還設(shè)置了排垢裝置，能夠快速地將污染物沉入設(shè)備底部，以便于排出設(shè)備之外。