超聲波清洗設(shè)備未來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)

1.需求高效經(jīng)濟(jì)的清洗專(zhuān)用設(shè)備

伴隨著超聲波清洗設(shè)備的應(yīng)用范圍拓展，超聲波清洗設(shè)備面對(duì)新科技急需創(chuàng)新。針對(duì)新技術(shù)，新材料，新產(chǎn)品的涌現(xiàn)，設(shè)計(jì)專(zhuān)用超聲波清洗設(shè)備應(yīng)該具有：優(yōu)異的性?xún)r(jià)比，與其他清洗方式能高效組合，有一定的自動(dòng)化程度。

2．發(fā)展超聲波碳?xì)湔婵涨逑丛O(shè)備

環(huán)境保護(hù)是我國(guó)的一項(xiàng)基本國(guó)策，清洗行業(yè)以前所沿用的ODS有機(jī)溶劑被禁止，因此，需要研發(fā)使用非ODS溶劑的新型清洗設(shè)備。經(jīng)濟(jì)環(huán)保的碳?xì)淙軇┏暡ㄇ逑丛O(shè)備凸顯其優(yōu)越性能。由于碳?xì)淙軇╅W點(diǎn)低，限制了其在超聲波清洗方面的作用。在引入超聲波碳?xì)湔婵涨逑醇夹g(shù)后，不僅達(dá)到了安全環(huán)保的目的，而且在真空狀態(tài)下進(jìn)行超聲波碳?xì)淝逑催€強(qiáng)化了潔凈功能，大理發(fā)展碳?xì)湔婵涨逑匆殉蔀榻窈蟓h(huán)保型超聲波清洗的發(fā)展方向。

3．研發(fā)高頻超聲波清洗設(shè)備

目前工業(yè)上大量使用的為低中頻段的超聲波清洗機(jī)，也即20~50KHZ頻段，而現(xiàn)在急需研發(fā)0~200KHZ高頻以及兆赫級(jí)超聲波清洗設(shè)備。

兆赫級(jí)超聲波清洗技術(shù)有以下的主要優(yōu)點(diǎn)：一是避免對(duì)器件表面清洗時(shí)帶來(lái)?yè)p傷，而是更加精準(zhǔn)地去除附著在器件表面的亞微米級(jí)的污垢。

兆赫級(jí)超聲波清洗設(shè)備目前已經(jīng)存在，產(chǎn)品主要來(lái)自國(guó)外，我國(guó)研制的兆赫級(jí)超聲波清洗設(shè)備還未從實(shí)驗(yàn)室走向工程應(yīng)用。兆赫級(jí)超聲波清洗設(shè)備主要應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)，用于對(duì)100~300mm硅片的清洗，既可以出去硅片表面0.15μm的顆粒，又可以組織漂洗過(guò)程中顆粒的重新附著?？梢?jiàn)，兆赫級(jí)超聲波清洗設(shè)備已經(jīng)是大規(guī)模集成電路制造生產(chǎn)過(guò)程中必不可少的。

4.開(kāi)拓超聲波清洗特殊應(yīng)用

超聲波清洗通常是對(duì)零部件的清洗，隨著工藝的不斷完善，出現(xiàn)了一些特殊應(yīng)用，如超聲波防垢在線(xiàn)清洗等。超聲波防垢清洗主要是利用超聲波強(qiáng)聲場(chǎng)處理流體，使流體中成垢物質(zhì)在超聲場(chǎng)的作用下，其物理形態(tài)和化學(xué)性能發(fā)生一系列的變化，使之分散、粉碎、松散、松脫而不易附著管、器壁形成積垢。超聲波強(qiáng)聲場(chǎng)處理流體不僅有防垢的作用，而且能加快液體表面?zhèn)鳠崴俾?，提高液體的傳熱效率，這些新應(yīng)用的出現(xiàn)更大地發(fā)揮了超聲波清洗的功能，近年來(lái)，雷士超聲波設(shè)備廠(chǎng)在開(kāi)拓超聲波應(yīng)用新領(lǐng)域方面做出了極大貢獻(xiàn)。

5.超聲波清洗設(shè)備智能化，集成化

隨著工業(yè)產(chǎn)品向微型化、智能化、壽命長(zhǎng)、高可靠性發(fā)展，在“互聯(lián)網(wǎng)+制造”的大變局中，超聲波清洗技術(shù)也與時(shí)俱進(jìn)，在工業(yè)生產(chǎn)與社會(huì)生活的許多方面，都有它活躍的舞臺(tái)。將各種新型處理器逐漸應(yīng)用到超聲波電源中，使整個(gè)超聲波系統(tǒng)具有優(yōu)良穩(wěn)定性、可靠性，并可集成多種功能，如頻率跟蹤、故障在線(xiàn)檢測(cè)、遠(yuǎn)程控制、組網(wǎng)集中控制等。